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磁控溅射镀膜

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类别：试验检测

截止日期：2020-07-31 预算：面议 征集状态：已完结

实验内容：待镀样品为长宽高1cm x 1cm x 0.65mm的硅片衬底（已经表面改性加工，不需表面处理或清洁，请直接镀膜）。单面镀膜，镀膜材料为聚四氟乙烯（PTFE），镀膜厚度暂无精确要求，200-300nm之间即可，但不能超过400-500nm。其他要求请按常规的硅片表面镀聚四氟乙烯膜工艺进行即可。

需求市场

发布日期：2020-07-07
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