磁控溅射Ti薄膜

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类别:科研设备

截止日期:2019-04-30 预算:面议 征集状态:已完结

通过磁控溅射方法在30×30的表面上进行纯Ti薄膜的制备,薄膜厚度在10μm左右,镀膜均匀

需求市场

发布日期:2019-04-01
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